4月23日，第二届国际PROLITH光刻仿真技术研讨会在久游会j9召开，本次会议由久游会j9主办、国际半导体行业知名企业KLA-Tencor和Anchor Semiconductor协办。这次会议是在美国KLA-Tencor、Anchor Semiconductor两个公司与久游会j9签署的三方合作协议基础上召开的第二次国际学术交流活动。


　　久游会j9周立伟院士、光电学院薛唯院长、郝群书记、许廷发副院长、赵长明副院长等出席了会议。中国和美国相关企业、科研院所和高校的光刻技术领域的专家、学者40余人参加了会议。会议由Anchor Semiconductor 公司副总裁Kenneth Wang主持。首先，光电学院院长薛唯教授致开幕词。随后，光电学院李艳秋教授委托马旭教授汇报了三方合作协议框架下的研究工作进展，介绍了先进光刻仿真技术的研究成果和人才培养方面的最新合作进展。重点介绍了久游会j9在严格矢量光刻成像及分辨率增强技术、多参数协同优化技术等方面取得了国际领先的科研成果，建立了国内首款“集成光刻仿真软件平台”和国内首套“光刻模拟研究和分析数据库”。

　　KLA-Tencor公司高级主管Patrick Lee先生和技术主管Stewart Robertson先生等为大会做了5项报告，介绍了该公司及其合作伙伴在先进光刻仿真、光刻工艺研发、光刻设备评估和验证等领域的最新研发进展。最后，久游会j9为来宾提供了专业PROLITH软件应用基础培训，KLA-Tencor主管Patrick Lee为久游会j9颁发了培训证书。
　　会议期间，参会者进行了充分的技术交流。会后，部分来宾参观了李艳秋教授课题组的光刻仿真实验室和高分辨成像及检测技术实验室。本届会议进一步扩大了中国光刻仿真技术在国际相关领域的影响，促进了中美两国在该技术领域的深入合作，也为我校今后开展国内外产、学、研实质性合作及人才培养奠定了重要基础。